半導體電子廠加濕器，半導體電子廠加濕設(shè)備

　　半導體電子廠加濕器，半導體電子廠加濕設(shè)備新聞資訊：半導體（semiconductor），顧名思義是介于導體和絕緣體之間，用來做控制導電的一種材料，現(xiàn)如今在很多的數(shù)碼產(chǎn)品或電子設(shè)備中，像電腦、手機、電視機、收音機等，這些都是需要用到半導體元器件或產(chǎn)品的；由此可見，半導體產(chǎn)品在當今數(shù)碼產(chǎn)品或電子設(shè)備中占有非常重要的作用。

　　隨著半導體生產(chǎn)工藝的不斷發(fā)展，更精密、集成度更高是行業(yè)發(fā)展的趨勢。因此，其制造工藝除了需要機械設(shè)備本身的工藝水平達到生產(chǎn)要求以外，其所處的生產(chǎn)環(huán)境--無塵車間的各項指標也必須被嚴格地控制，這其中包括了：潔凈度、溫濕度、照度、氣流方向、振動靜電、磁場以及有害氣體等各個方面。

　　其中，車間環(huán)境的溫濕度控制是一個重點，其控制的效果直接影響著生產(chǎn)效率和半導體產(chǎn)品的優(yōu)良率。目前，半導體無塵車間對環(huán)境溫濕度的控制范圍通常為：溫度22+/-2℃，濕度45+/-5%RH之間。有別于其他的恒溫恒濕環(huán)境系統(tǒng)的要求，由于半導體電子產(chǎn)品對靜電、粉塵等的敏感性對其品質(zhì)的影響；

　　不管是什么半導體電子廠在制作各種半導體元器件或產(chǎn)品的過程中，其生產(chǎn)車間內(nèi)必定是放了很多的的半導體元器件，在這些存放半導體元器件的環(huán)境里面，通常都會比較干燥，在一個干燥的環(huán)境下是極易導致靜電增強、粉塵增多等問題，這些對與半導體電子廠的正常生產(chǎn)和產(chǎn)品品質(zhì)都是非常不利的，而且此時車間內(nèi)的工作人員也會感到皮膚干燥、開裂、呼吸不適和情緒不適，這將影響他們的工作，特別是在冬季干燥的季節(jié)是經(jīng)常會出現(xiàn)的。

　　為此，半導體電子廠一般在這種情況之下都是需要加濕的，加濕的作用主要是除靜電，加濕器則是一個很好的加濕除靜電設(shè)備；大部分電子廠加濕都是用超聲波加濕器，也可以用高壓微霧加濕器，也可以用電極加濕器；但半導體電子廠一般都是無塵車間，推薦使用無霧型潔凈濕膜加濕器來進行潔凈加濕；避免靜電的產(chǎn)生，就可以很好的避免對半導體產(chǎn)生帶來不利的影響，也可以避免因為靜電導致半導體的性能出現(xiàn)任何的小問題。

　　安詩曼QS-9半導體電子廠加濕器＆QS系列潔凈濕膜加濕器是利用水的蒸發(fā)性，將水通過水泵和分配器不斷送到濕膜上部，在重力作用下水通過濕膜回到主水箱形成循環(huán)，空氣通過濕膜時，與濕膜充分接觸，過濾塵埃等顆粒物，使空氣凈化，濕度增加，從而達到加濕，凈化，除塵的目的，一般的場所下都適合使用。

　　安詩曼QS-9半導體電子廠加濕器＆QS系列潔凈濕膜加濕器是各種對濕度、潔凈度等有較高要求場所加濕的不二之選，廣泛用于：電話通訊程控、交換、傳輸機房、計算機房、印刷制版車間、電子生產(chǎn)車間、精密機械加工車產(chǎn)間、精密儀器儀表室、會議室、檔案館、美術(shù)館、圖書館、別墅區(qū)。

　　歡迎您查詢半導體電子廠加濕器，半導體電子廠加濕設(shè)備的詳細信息！加濕器種類有很多，不同品牌加濕器價格及應(yīng)用范圍也會有所不同，而我們將會為您提供全方位的售后服務(wù)和優(yōu)質(zhì)的解決方案。

　　安詩曼QS-9半導體電子廠加濕器＆QS系列潔凈濕膜加濕器技術(shù)參數(shù)：

　　名稱

　　加濕量

　　換風量

　　適用空間

　　電源電壓

　　噪音

　　輸入功率

　　霧粒直徑

　　凈重

　　外型尺寸

　　型號

　　Kg/h

　　M3/h

　　M3

　　V/Hz

　　DB

　　W

　　μm

　　Kg

　　CM

　　QS-3

　　≥3

　　1000

　　150

　　220/50

　　30

　　130

　　≤5

　　25

　　60×40×118

　　QS-6

　　≥6

　　1300

　　300

　　220/50

　　35

　　220

　　≤5

　　30

　　60×40×120

　　QS-9

　　≥9

　　2400

　　450

　　220/50

　　40

　　350

　　≤5

　　36

　　78×35×172

　　QS-12

　　≥12

　　3500

　　600

　　220/50

　　60

　　450

　　≤5

　　47

　　78×36×174

　　QS-15

　　≥15

　　3500

　　800

　　220/50

　　60

　　580

　　≤5

　　56

　　120×50×180

　　◎計算公式：H=體積×P×溫度系數(shù)×（X2－X1）÷1000×換氣次數(shù)×損耗系數(shù)公式說明：H-所需加濕量（kg/h）、P-空氣密度（kg/m3）=1.2、V-體積（加濕場所面積×高度）、1000-g換算為Kg、損耗系數(shù)-1.2（包括人員，環(huán)境的密閉效果和材料等因素）、換氣次數(shù)-通常為2-3次、溫度數(shù)系-1.2（冬天往上加，夏天就按照1.2或往下減）、X2-X1-每立方米空氣的水分重量即絕對濕度（X2為加濕后，X1為加濕前）；

　　◎濕膜加濕器的加濕量主要取決于濕膜的截面積，風量的大小。其次要和房間內(nèi)的溫度有關(guān)，水質(zhì)的好壞，房間內(nèi)服務(wù)器散發(fā)的熱量等等的客觀因素有關(guān)。判斷濕膜加濕機的加濕量大小，可以通過每小時加濕水的重量來判斷。查看更多半導體電子廠加濕器，半導體電子廠加濕設(shè)備的詳細信息盡在：安詩曼除濕機

　　綜上所述：在半導體器件生產(chǎn)車間，由于塵埃吸附在芯片上，尤其是超大規(guī)模集成電路的成品率會大大下降。生產(chǎn)車間操作人員都穿潔凈工作服，若人體帶靜電，則極易吸附塵埃、污物等，若這些塵埃、污物被帶到操作現(xiàn)場的話，將影響產(chǎn)品質(zhì)量，惡化產(chǎn)品性能、大大降低成品率。如果吸附的灰塵粒子的半徑大于線條寬度約時，薄膜厚度在下時，則最容易使半導體元器件或產(chǎn)品報廢。

　　為此，ESD也是半導體制造環(huán)境控制的一項重要內(nèi)容，靜電釋放可能對產(chǎn)品和生產(chǎn)設(shè)備造成損害，還可能引起硅片表面塵粒吸附，影響產(chǎn)品的良率。靜電消除要在潔凈室設(shè)計上進行總體考慮，除了設(shè)備接地(包括潔凈墻板和高架地板，辦公設(shè)備等)外，還要采用防靜電墻板、高架地板，人員要求穿著防靜電的潔凈服、潔凈鞋。對存在ESD危害風險的設(shè)備和生產(chǎn)區(qū)域應(yīng)安裝加濕器來進行加濕。

　　半導體電子廠要想在一年四季不同氣候條下都能夠正常生產(chǎn)和保證產(chǎn)品品質(zhì)的穩(wěn)定，其生產(chǎn)車間內(nèi)部就必須維持一個穩(wěn)定的環(huán)境，特別是要對車間生產(chǎn)環(huán)境中的溫度、濕度、空氣潔凈度、氣流組織，壓力平衡等多個參數(shù)進行嚴格的控制。在濕度方面，選用安詩曼加濕器來進行有效調(diào)節(jié)的好處不僅僅表現(xiàn)在預(yù)防和消除靜電這個方面，還在降塵和除塵方面有著非常不錯的表現(xiàn)。以上關(guān)于半導體電子廠加濕器，半導體電子廠加濕設(shè)備的全部新聞資訊報道是安詩曼提供的，僅供大家參考！